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第1136章 留给我们的时间已经不多了（第2页）

与此同时。

龙国。

破壁专项指挥部。

李阳坐镇指挥部第一负责人的位置，同样面临艰巨的挑战。

全国顶尖的力量被动员起来，攻关euv光刻机的核心子系统。

然而！

在光源这一最关键的部分，团队遇到了硬骨头。

採用主流雷射等离子体（lpp）方案的实验小组遇到了大麻烦。

他们无法在提升雷射功率以达到euv生成閾值的同时，保证光学元件的使用寿命和等离子体靶材的稳定性。

几次实验下来，昂贵的镜片被烧蚀，產生的euv光功率也极不稳定，远达不到要求。

“李工，asml的路线，我们短时间內恐怕很难完全复製。”

“他们的技术积累太深了，特別是那个锡滴靶材的產生和雷射轰击的同步控制，精度要求变態的高。”

光源小组的负责人语气沉重地向李阳匯报，脸色有些颓然。

原本以为，在李阳的带领下，凭藉著他们自身丰富的经验，这项技术可以轻鬆突破。

但现在看来，他们还是有些小瞧这种高精度的光刻机了。

这让自信满满的他们，遭受了不小的打击。

项目刚进展不久，就遇到了第一个重大瓶颈，指挥部里的气氛有些凝重。

如果光源问题无法解决，后续的所有工作都无从谈起。

李阳静静地听著匯报，翻看著失败的实验数据和损伤元件的照片。

他没有指责，而是陷入了沉思。

良久，他抬起头，目光扫过在场的专家。

“我们是不是陷入了一个思维定式？”

他缓缓开口。

“为什么一定要完全沿著asml走过的路再走一遍？”

“他们用lpp成功了，不代表这是唯一的路径，也不一定是最適合我们基础的路径。”

他走到白板前，画下了几个简单的示意图。

“我们最大的优势是什么？”

“是我们在大型尖端工程装置上积累的经验，尤其是对高温等离子体的理解和控制能力。”