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第1139章 不够远远不够（第3页）

“euv输出功率计算…”

负责监测的研究员声音带著一丝不易察觉的激动。

“初始功率…32w，稳定在…35w！”

“35w！！！”

钱宏远忍不住惊叫，满脸骇然。

这个数值，比第一次测试的峰值还高！

还没有让他回过神，更关键的数据紧隨其后。

“主约束磁场监测，波动幅度低於安全閾值10%！”

“等离子体湍流抑制率维持在设计值，堆芯核心温度稳定，无异常升温。”

负责功率监测的研究员也连忙匯报。

“主堆稳定输出功率…短暂下降1。2%，3秒后恢復平稳，整体影响低於1。5%！”

一声声匯报，响彻整个实验室。

所有听到这些结果的研究员，还有钱宏远、冯建辉等人，都呆住了。

成功了！？

不仅成功了，结果还异常出色。

解决了问题的同时，还远超了第一次测试的数据！

巨大的压力瞬间消散，实验室里响起一片压抑后的欢呼声。

“太好了，终於成功了！”

“李工牛逼。”

“还以为又要以失败告终了，没想到啊，最后李工竟然挽狂澜於既倒！”

“还得是李工啊！”

“……”

研究员们的激动，溢於言表。

第二次测试的结果，出奇之好。

石墨烯涂层的电磁屏蔽效果和优化后的粒子注入参数完美匹配，將干扰降到了最低限度，代价从5%锐减到可忽略的1。2%，而euv光源功率反而提升到了35w！

李阳脸上充满了笑容，但也只是持续了片刻。

他对这个结果很满意，当然也在预料之中。

只是，单单做到这一步，还远远不够。

他要的，是独立自主的造出光刻机！

他立刻吩咐道。

“钱教授，立刻组织人手，全面分析第二次测试的所有数据，特別是粒子束流的精准控制参数、辐射强度分布以及磁场同步性……”