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第146章 前往京城（第2页）

它需要在较大面积上实现高于60℅且均匀的反射率，同时要求系统中所有多层膜的反射峰值波长在极窄范围内精确匹配，这种精度要求几乎逼近物理极限。

正是这样的技术难度，使得多层膜的制备成为一项艰巨挑战，也吸引了无数科研人员投身其中。

徐端颐及其团队在EUV多层膜技术上始终未能突破，这确实是一个关键的技术瓶颈。

“林轩所长，我听闻您在EUV多层膜技术方面颇有见地，甚至取得了重要进展，特意前来请教。”

徐端颐教授开门见山，有些期待的看着林轩。

林轩微微一笑，神态谦逊而从容：“徐教授，您过誉了。我只是在多层膜技术领域做了一些初步探索，还谈不上重大突破。”

“在EUV光刻机中，多层膜的功能极为关键……它不仅需要在较大面积上实现高于60℅且均匀的反射率，还要求全系统多层膜的反射峰值波长匹配误差控制在极小范围内，例如0。05纳米以内。”

林轩想了想，开始详细阐述他的技术思路。

“这是一个极其苛刻的要求，任何微小偏差都可能导致系统失效。”

徐端颐教授专注聆听，不时点头表示认同。

他深知这项技术的难度与价值，因此对林轩的每一点分析都格外关注。

“那么，您是如何突破这一技术障碍的呢？”徐端颐教授迫切地追问。

“关键在于实现对多层膜厚度与成分的精确调控，我们通过先进的镀膜工艺与高精度检测设备，实现了对每一层膜厚的纳米级控制。”

“同时，我们对膜层材料成分进行了优化设计，从而提升了反射率与稳定性。”

林轩解释道。

听到这里，徐端颐教授不禁流露出惊叹之色。

他未曾料到林轩能在如此短时间内取得这样实质性的进展。

徐端颐感慨道：“林轩所长，您的能力确实令人钦佩，这项技术的突破将对EUV光刻机的发展产生深远影响。”

林轩谦逊地笑了笑：“徐教授，过奖了，这是团队共同努力的成果。我相信，只要我们持续协作，必能推动EUV光刻机技术向前迈进。”

两人随后就多层膜技术的具体细节进行了深入交流。

徐端颐教授不时提出自己的观点与疑问，林轩则耐心地一一解答。

他们的对话充满了思想碰撞与灵感交融。

时间悄然流逝，这场关于EUV多层膜技术的探讨也逐渐接近尾声。

“林轩所长，您的才华与远见令我深感敬佩。我相信，在您的引领下，303研究所一定能在EUV光刻机技术领域取得更辉煌的成就。”

“我们一定能够研制出属于自己的EUV光刻机！”

徐端颐教授十分感慨，这次聊天他收获很多。

“是的，携手努力！”林轩微笑着送别了徐端颐教授。

EUV光刻机的研发进展至此，已接近成功——这必将是一项令世界瞩目的重大科技成果。

在林轩与国家军工系统的支持下，凭借徐端颐教授及团队的通力协作，EUV光刻机的研发进度突飞猛进。

如今，只要攻克EUV多层膜技术这最后一道难关，一切便将水到渠成。

几天之后。

林轩与李秋月乘坐专机，从综合研究所飞赴北京，参加这场建国50周年的盛大阅兵典礼……