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第394章 晶片良率百分百没有一个废品零缺陷全良率（第1页）
接下来几天。
一切都在有条不紊地进行著。
1nm光刻机首片晶圆流片成功之后，曹所长和刘工他们几乎把车间当成了家。
困了就靠在椅子上眯一会儿。
醒了就继续盯著屏幕上的数据，眼睛都不敢眨一下。
不是江辰要求他们这么拼，是他们自己停不下来。
用刘工的话说：
“江院士，您別劝我。”
“我现在一闭眼就梦到晶圆上的那些纳米级结构，比做梦娶媳妇还激动。”
曹所长在旁边补了一句：
“他上周刚闹离婚，就是因为天天泡在实验室不回家。”
刘工瞪了他一眼：“曹所长，你能不能別在江院士面前揭我短？”
“我说的是事实。”
“事实也不能在这个时候说！”
江辰在旁边看著两人斗嘴，没忍住笑了一声。
这种氛围，比任何庆功宴都让人踏实。
良率爬坡的速度出乎所有人的预料。
一般来说。
新製程的光刻机从首片流片成功到良率稳定，少说也要折腾好几个月。
asml的7nm製程刚出来那会儿，良率惨不忍睹。
一片晶圆上能用的晶片连一半都不到。
工程师们熬了一年多才勉强把良率拉到85%以上。
但江辰这台1nm光刻机，从一出手就不讲道理。
起步良率，95%。
曹所长拿到第一组良率数据的时候，整个人愣在控制台前面，盯著屏幕上的数字看了足足十几秒。
然后转头问旁边的刘工：“你掐我一下。”
刘工毫不客气地在他胳膊上拧了一把。
“嘶！！！不是做梦？”
曹所长齜牙咧嘴地揉著胳膊，脸上的表情既痛苦又狂喜，
“95%？起步就95%？我们是不是跳过了什么步骤？”
“正常流程不是应该先从六七十开始，然后一点一点往上爬吗？”
刘工在旁边搓著手，兴奋得像个刚拿到新玩具的孩子：
“曹所长，正常流程那是针对正常光刻机的。”
“咱们这台机器，从头到尾就没正常过。”
“你这话怎么听著像骂人？”
“不是骂人，是夸它！”
“您想想，光源，江院士给的方案，功率直接干到了千瓦级，比asml的那套高出好几倍。”
“物镜系统，还是江院士的方案，薄膜粗糙度做到了零点零几纳米。”
