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第56章 被歷史淘汰的技术（第2页）

两种截然不同的技术哲学，在他的笔下，开始融合。

为了验证自己的想法，也为了了解当今世界最新的科技动態，接下来的几天，付成几乎泡在了图书馆的海外报刊阅览室里。

这里能看到一些过期的《科学美利坚》、《自然》周刊，甚至还有几份皱巴巴的《东瀛经济新闻》。

在一份1981年初的《科学美利坚》上，一篇题为《微米竞速：加州与东瀛的晶片战爭》的文章，让他停下了翻阅的手。

文章配著一张模糊的图片，是一台看起来像冰箱一样巨大的、结构精密的机器，旁边站著几个穿著白色无尘服的技术员。

机器的名称，叫做“步进式光刻机”（stepper）。

文章详细介绍了“森特尔”公司如何利用这种新式武器，在与东瀛“尼普光学”的竞爭中，率先將晶片的特徵尺寸缩小到了2微米。

2微米！

付成倒吸一口凉气。

他们现在攻关的等离子体刻蚀机，设计目標是能刻1微米的沟槽。他一直以为，只要刻蚀机成功，他们就追上了世界的脚步。

现在看来，他错得离谱。

刻蚀机，只是“雕刻刀”。

而光刻机，才是那支“画笔”！

连一张精確的“草图”都画不出来，就算给你一把再锋利的雕刻刀，又有什么用？

这篇文章像一盆冰水，將他从技术突破的喜悦中浇醒。

他第一次清晰地认识到，华夏在半导体这个领域，与世界顶尖水平的差距，不是一个单点，而是一整条產业链的全面落后。

是体系的落后。

追赶？怎么追？

別人已经开上了高速公路上的赛车，你还在吭哧吭哧地试图造一个更好的马车轮子。

付成感到了前所未有的无力。

他烦躁地放下杂誌，目光无意中又落回了那本苏维埃笔记上。

z箍缩……高密度等离子体……

一个念头，从他脑海深处冒了出来。

高密度、高温的等离子体，在箍缩到极致时，会释放出什么？

能量。

以什么形式？

高能粒子和……强烈的电磁辐射！

什么波段的辐射？

当等离子体温度达到数千万度时，辐射的峰值波长，会进入一个匪夷所思的领域——软x射线！